化学气相沉积系统

名称：化学气相沉积系统

• 资产编号：2020021970
• 型号：CVD-55347C
• 厂家：广州甲工（AE）
• 所属单位：物理学院
• 使用性质：科研
• 联系人：陈彦聪 何钦明
• 放置地点：304半导体探测器实验室

主要规格及技术指标

• 1.三温区可独立调节至1200 ℃ 2.工作管直径：2英寸 3.升温速率：0-50 ℃/min（推荐25℃/min以下使用） 4.四路混气：氢气：0-50sccm，氩气：0-500sccm，氧气：0-200sccm，氮气：0-1000sccm，精度±1.0%F.S.

主要功能及特色

• 适合气体与温度区间的CVD、PVD、CVT材料生长、退火。 正在加载预约资源…… 正在加载检测项目……